利用导模法(EFG)生长的半绝缘型及导电型Ga2O3晶体,加工得到2英寸氧化镓衬底。
关键指标
1.双晶摇摆半高宽:≤350"
2.载流子浓度:1x1016~1019cm-3
3.位错密度:< 1x104cm-2
4.晶面偏差:<±1°
5.粗糙度:Ras≤0.5nm