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氧化镓衬底
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氧化镓晶锭
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氧化镓流片
氧化镓设备
VB衬底
利用垂直布里奇曼法(VB)生长的4英寸单晶晶圆(100)
关键指标
1.双晶摇摆半高宽:≤350"
2.晶面偏差:<±1°
3.粗糙度:Ra≤1nm